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集微网消息，国家知识产权局网站日前公开了上海传芯半导体有限公司“曝光成像结构 、反射式光掩模版组及投影式光刻机”发明专利申请。根据专利说明书 ，该发明提供一种用于EUV光刻的曝光成像结构 、反射式光掩模版组